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- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
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- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
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- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)。
單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
桌面型單靶磁控鍍膜儀
樣品臺
尺寸
φ100mm
加熱
*高500℃
轉(zhuǎn)速
0-20可調(diào)
磁控濺射靶
數(shù)量
2” x1
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
機(jī)械泵
旋片泵
分子泵
渦輪分子泵
真空測量
電阻規(guī)+電離規(guī)
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
極限真空
1.0E-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
機(jī)械泵1.1L/s 分子泵600L/s
電源配置
數(shù)量
直流電源 x1
*大輸出功率
直流電源150W
其他
供電電壓
AC220V,50Hz
整機(jī)功率
2kW
整機(jī)尺寸
550mm X 350mm
X400mm
