-
PECVD化學氣相沉積...
PECVD化學氣相沉積系統采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低...
-
PEALD等離子增強原...
等離子增強原子層沉積(PEALD)系統是一種先進的薄膜沉積技術,結合了等離子體和原子層沉積(ALD)的優點,以實現更高的...
-
等離子增強化學氣相沉積...
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,基本溫度低,沉積速率快,在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
-
等離子體增強型化學氣相...
化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用...
-
CVD化學氣相沉積系統
CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
-
PECVD氣相沉積
PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
-
雙溫區CVD化學氣相沉...
CVD(化學氣相沉積)氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術,通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應,形成薄膜
-
三溫區PECVD石墨烯...
三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學實驗上
-
熱陰極直流等離子體化學...
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
-
卷對卷PECVD石墨烯...
卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
-
PECVD-R?旋轉等...
本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
-
PE-HPCVD等離子...
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
-
PECVD鍍膜儀
CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應...
-
單溫區旋轉PECVD石...
單溫區旋轉PECVD,安裝有真空自動投料器,爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料,可以以額定的速率...
-
卷對卷式PECVD
卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
-
等離子增強CVD系統
等離子增強CVD系統由等離子發生器,三溫區管式爐、單溫區管式爐、射頻電源、真空系統組成。等離子增強CVD系統為了使化學反...
-
等離子增強型CVD系統
CY-PECVD50R-1200-Q是一款等離子增強型CVD系統。此系統由150W射頻電源、單溫區管式爐、3通道質子流量...