- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱
雙靶等離子濺射鍍膜儀（標(biāo)準(zhǔn)型）
產(chǎn)品型號(hào)
CY-PLZ180-II-DC-Q
樣 品 臺(tái)
尺寸
100mm
到靶面距離
20~35mm高度可調(diào)
旋轉(zhuǎn)速度
1~20rpm可調(diào)
等離子濺射靶
數(shù)量
2英寸x2
冷卻方式
自然冷卻
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 200mm
觀察窗口
全向可視
腔體材料
高純石英
開啟方式
頂蓋拆卸式
上下蓋材質(zhì)
304不銹鋼
抽氣接口
KF25
進(jìn)氣接口
1/4英寸卡套接頭
電源配置
數(shù)量
直流電源x1
輸出功率
*大150W
濺射電源
3000V
*大濺射電流
50mA
真空系統(tǒng)
真空泵類型
雙極旋片真空泵
抽氣接口
KF25
排氣接口
KF16
抽氣速率
1.1L/s（4m3/h）
極限真空度
≥1Pa
真空測量
電阻真空規(guī)
其 他
供電電源
AC 220V 50Hz
整機(jī)功率
1.5kW
整機(jī)尺寸
570mm X 450mm X500mm
整機(jī)重量
30kg
